2022-11-11 11:18:41683
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NPC-4000（M）等离子去胶机（刻蚀机）概述：NANO-MASTER等离子去胶和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同
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