SWC-4000兆声晶圆（掩模版）清洗机概述：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版...

NTE-4000（M）热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的...

NSC-3500（A）全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6“旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，J限真...

NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达1...

NSC-4000（M）磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达8“旋转平台，可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，J限真空可达1...

NRE-3500（A）全自动反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便...

NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备概述：原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足较精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形...

NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能...

NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统概述：NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，其中样品台位于主腔体内，二级腔体则用于安置...

NPE-4000 ICPECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER ICPECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到...

NPD-4000（M）PLD脉冲激光沉积系统机制：PLD的系统设备简单，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的...

NRE-4000（M）反应离子刻蚀概述：NRE-4000是一款独立式RIE系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形...

NRE-4000（ICPM）ICP刻蚀机概述：是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀...

NRE-4000型RIE-PE刻蚀机概述：NRE-4000是一款独立式PE刻蚀RIE刻蚀一体机，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13...

NRE-3500型RIE-PE刻蚀机概述：独立式RIE刻蚀PE刻蚀一体机，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶...

NMC-4000（A）全自动PAMOCVD系统概述：NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA...

SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统概述：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版...

SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。NAN...

LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统概述：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩...

LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统概述：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得z干净的晶圆片和...