当前位置:那诺—马斯特中国有限公司>>产品展示>>Cleaning清洗去胶系统>>大基片清洗/去胶/湿法刻蚀
LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩...
LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得z干净的晶圆片和...
请输入账号
请输入密码
请输验证码
以上信息由企业自行提供,信息内容的真实性、准确性和合法性由相关企业负责,机床商务网对此不承担任何保证责任。
温馨提示:为规避购买风险,建议您在购买产品前务必确认供应商资质及产品质量。