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BeamPeek光束分析儀

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更新时间：2023-10-13 11:47:39浏览次数：244次

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新產品！BeamPeek™高功率雷射束分析和功率測量系統BeamPeek™系統可以同時對(3D列印)積層製造(AM)雷射進行光束分析、焦點大小和位置以及功率測量

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Ophir

新產品！ BeamPeek™ 高功率雷射束分析和功率測量系統

BeamPeek™ 系統可以同時對(3D列印)積層製造 (AM) 雷射進行光束分析、焦點大小和位置以及功率測量。它追蹤這些隨時間變化的參數，以幫助保持製造零件的質量和可重複性。BeamPeek™ 整合了雷射光斑分析儀相機、功率計、光束補集器、分束器和光學器件，為工業環境中的積層製造雷射分析提供全包解決方案。
•焦點大小
•校準焦點位置以構建平面
•雷射功率
•雷射功率密度
•光斑大小和隨時間變化的功率
BeamPeek光束分析儀 特點
  • 緊湊型
  • 輕巧化設計
  • 具有正在申請的被動冷卻轉儲盒
  • 無需水或風扇冷卻
BeamPeek光束分析儀 主要參數
  • 波長範圍:532nm, 1030-1080nm
  • 最小~焦點光斑尺寸：34.5µm - 2mm
  • 功率範圍:10~1000W
  • 焦距:150mm-800mm
  • 焦點位置校準: ±100µm
  • 光斑分析符合:ISO 11146 Measurements
  • 功率計溯源校準:NIST traceable calibration ±3%
  • 符合:CE, UKCA, China RoHS
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