NTE-4000（M）热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的...

C-3500（A）全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6“旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，J限真空可...

NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达1...

C-4000（M）磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达8“旋转平台，可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，J限真空可达10-...

NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统概述：NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，其中样品台位于主腔体内，二级腔体则用于安置...

NPE-4000 ICPECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER ICPECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到...

NPD-4000（M）PLD脉冲激光沉积系统机制：PLD的系统设备简单，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的...

C-4000Sputter磁控溅射镀膜机概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达8“旋转平台，可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，J限真空...

NTE-3500（A）全自动热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。...

NOC-4000光学镀膜系统概述：NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供*的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第...