沈阳科晶自动化设备有限公司
免费会员

当前位置:沈阳科晶自动化设备有限公司>>化学气相沉积设备(PECVD等)>> 高真空三温区CVD系统OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV

高真空三温区CVD系统OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV

参  考  价面议
具体成交价以合同协议为准

产品型号

品       牌 沈阳科晶/KEJING

厂商性质生产商

所  在  地

联系方式:张先生查看联系方式

更新时间:2021-03-15 19:19:44浏览次数:224次

联系我时,请告知来自 机床商务网
高真空三温区CVD系统OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV

产品简介:高真空三温区CVD系统OTF-1200X-4--C9HV是由九通道质量流量控制器和高真空机组组成的CVD系统,其炉管直径为4″,高温度可达1200℃,极限真空可达 10-5 torr,混气系统可对1-9种气体进行精确的混合,然后导入管式炉内部,可用来研究气体环境对材料的影响。

 

产品型号

高真空三温区CVD系统OTF-1200X-4--C9HV

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:不需要

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源

4、工作台:尺寸1600mm×600mm×700mm,承重150kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1、炉体采用双层壳体结构,并带有风冷系统,使得壳体表面的温度<60

2保温材料采用高纯氧化铝纤维,减少热量损失,且内膛涂有高温氧化铝涂层,可提高加热效率,延长使用寿命

3、设有三个温区,可独立控温,可设置50段升降温程序,并设有过热和断偶保护。

4、供气系统与真空机组置于移动架内,方便移动。

5真空系统采用一键操作,按下“start键后隔膜泵和涡轮分子泵将会启动(隔膜泵先启动,待真空度达 10-2mbar后分子泵自动启动)。

6、根据腔体内的真空度,系统自动控制旋片泵的旋转速率。

7、已通过CE认证。

技术参数

管式炉

1、电源:AC 208V-240V单相   50Hz/60Hz  7KW

2、炉管:高纯石英管,外径Ø100mm×内径Ø92mm×1400mm

3、加热元件:掺钼铁铬铝合金电阻丝,表面涂有氧化锆

4、加热区:温区I220mm,温区II440mm,温度III220mm,总长880mm

5、恒温区:500mm(三个温区设为同一温度时)

6工作温度:高1200℃,连续工作1100

7、大升温速率:≤20/min

8、控温精度:±1

9、热电偶:3K型热电偶

高真空机组

1、输入电源:AC110VAC220V可切换  50Hz/60Hz

2、消耗功率:110W

3、壳体尺寸:600mm×600mm×700mm

4大承重量:270kg

5、抽气速率:N2-33L/sHe-39L/sH2-32L/s

6、工作范围:1000mbar-<10-7mbar

7、极限真空度:10-5torr

8、数字式真空显示计:10-8mbar-103mbar

质量流量混气系统

1、质量流量计:9通道精密质量流量计

2、流量计范围:10sccm-1000sccm三个,20sccm-200sccm三个,30sccm-10sccm三个

3、压力表:3个,用来检测混合气体压力

产品规格

尺寸:炉体550mm×380mm×520mm,高真空机组600mm×600mm×700mm

   质量流量混气系统600mm×600mm×700mm

重量:100kg

真空配

1

不锈钢真空密封法兰

2

2

精密针阀

2

3

1/4软管接头

1

4

高温硅胶O型密封圈(高可承受300℃)

6

5

氧化铝管堵

1

6

KF-40真空波纹管

1

7

KF-40快速卡箍

3

8

KF-25卡箍

2

可选配件

防腐型数字式真空显示计


会员登录

×

请输入账号

请输入密码

=

请输验证码

收藏该商铺

X
该信息已收藏!
标签:
保存成功

(空格分隔,最多3个,单个标签最多10个字符)

常用:

提示

X
您的留言已提交成功!我们将在第一时间回复您~
在线留言