高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV 返回列表页

产品型号

高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：不需要

2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地

3、气：设备腔室内需充注气体，需自备气瓶气源

4、工作台：尺寸1600mm×600mm×700mm，承重150kg以上

5、通风装置：需要

主要特点

1、双层壳体，配有风冷系统，壳体温度<60℃。

2、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层，可以提高反射率和保护炉膛洁净度。

3、采用PID控制器，可以设置30段升降温程序。

4、质量流量系统采用316不锈钢制作而成。

5、已通过CE认证。

技术参数

管式炉

1、电源：AC 220V   50Hz/60Hz

2、石英管：外径Ø80mm，内径Ø75mm，长1000mm

3、加热元件：掺钼铁铬铝合金电阻丝（表面涂有氧化锆）

4、加热区域：440mm

5、恒温区域：150mm

6、工作温度：高1200℃，连续工作1100℃

7、大升降温速率：20℃/min

8、控温精度：±1℃

9、热电偶：K型

高真空机组

1、壳体：600mm×600mm×700mm，大承重275kg

2、真空泵：德国Pfeiffer真空泵

3、显示屏：LCD数字显示

4、抽气速率：N₂-33L/s，He-39L/s，H₂-32L/s

5、工作范围：1000mtorr-10^-7mtorr

6、极限：10^-8mtorr（无泄漏）

质量流量混气系统

1、电源：单相AC208V-240V  50Hz/60Hz

2、功率：18W

3、尺寸：600mm×600mm×700mm

4、混气箱：Ø80mm×120mm