概览

等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对玻璃、金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。 等离子体的”活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。

特点

• 采用纳米喷头高低压转换雾化设计，使液态分子极精细，且不影响药水效果
• 恒定流量控制系统，保证药水平稳恒定的供流，而非波浪线式供流，较好的解决白雾现象。
• 精确控制喷涂药量，提高药水的雾化能力，使膜层与玻璃能均匀的结合，提高产品喷涂的均匀性，增大膜层表面爽滑度；
• 喷嘴运动速度及输送线速度均可调，极大的提高生产效率，满足各种用户需求。
• 采用*等离子清洗机， 镀膜前对工件进行清洗处理， 改变工件表面特性，提高工件亲水性，使玻璃表面与膜层发生附和反应，提高膜层结合的牢固度，提升产品的抗老化以及耐摩擦能力，使镀膜品质更高。

技术参数