主要用于半导体硅晶片（Silicon Wafer）检测、液晶屏（LCD）检测、导电粒子（Conductive Particles）检查，实验室材料分析及其他精密工程检测领域研究，可对样品进行明场、暗场、微分干涉及偏光观察。
性能特点：
★ | 系统采用无限远平场消色差、长工作距、明暗场两用物镜，成像清晰、像面平坦 |
★ | 配备反射式柯拉照明系统，为不同倍率的物镜提供均匀充足的照明 |
★ | 正像三通观察筒，25°倾斜，极大的提高了观察的舒适性与操作的适应性 |
★ | 配备了6"带离合器机械平台，行程158*158mm，可快速移动 |
★ | 人机学设计，高刚性镜臂，"Y"型底座，调焦机构采用前置式操作控制，粗微调同轴 |
★ | 光源采用宽电压数字调光技术，具有光强设定与复位功能 |
★ | 可选配摄影摄像装置、简易偏光装置、干涉滤光片、测微尺等附件，拓展应用领域 |
HN-MXD主要技术参数
光学系统 | 无限远色差校正光学系统 |
物镜 | 无限远平场消色差，长工作距金相物镜（明暗场两用），5X、10X、20X、50X、80X |
目镜 | 高眼点平场目镜，PL10X，线视场φ22mm |
观察筒 | 正像，铰链式三目，25°倾斜，分光比：双目99%，三目99% |
照明系统 | 反射式柯拉照明，明暗场切换，带简易偏光接口，12V/100W卤素灯，预置中心 |
调焦机构 | 粗微调同轴，带粗调上限位、松紧调节装置和随机限位装置 |
物镜转换器 | 内定位、内倾式、五孔、明暗场两用物镜转换器 |
载物台 | 6英寸矩形，机械移动平台200mmX200mm，移动行程：158mmX158mm |
机架 | 全新的人机工程学设计，高刚性镜臂，"Y"型底座，前置式操作控制 |
选购附件 | 摄影摄像装置、简易偏光装置、干涉滤光片、测微尺等 |
观察筒 | 正像观察筒，物的移动与像的移动方向一致，不会出现使用倒像观察筒时物像方向相反而产生的错觉。避免操作失误，提高工作效率。 |
粗微动同轴调焦机构 | 1、采用新型导轨机构，粗微动同轴 |
机械移动载物台 | 1、双层机械移动式，带离合器控制手柄，可快速移动 |
照明系统 | 1、12V/100W卤素灯，预置中心 |
物镜转换器 | 1、内定位内倾式、五孔明暗场两用物镜转换器 |
偏光装置 | 1、选择简易偏光附件可以实现偏光观察 |
