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苏州清芯卓半导体设备有限公司


  • 湿法EKC清洗机_苏州芯矽科技

    详细摘要: 湿法EKC清洗机是半导体清洗设备之一。它基于化学与机械作用结合的原理,利用含氧化剂和酸性物质的溶液清洗晶圆表面,溶解杂质。液体冲刷与超声波装置增强效果。具备高效...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-03-04 在线留言

  • SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机

    详细摘要: SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版...

    产品型号:所在地:国外更新时间:2022-12-08 在线留言

  • SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统

    详细摘要: SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版...

    产品型号:所在地:国外更新时间:2022-11-16 在线留言

  • SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机

    详细摘要: SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。NAN...

    产品型号:所在地:国外更新时间:2022-11-16 在线留言

  • LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统

    详细摘要: LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩...

    产品型号:所在地:国外更新时间:2022-11-16 在线留言

  • LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统

    详细摘要: LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得z干净的晶圆片和...

    产品型号:所在地:国外更新时间:2022-11-16 在线留言

  • NIE-3500(A)全自动离子束清洗系统

    详细摘要: NIE-3500(A)全自动离子束清洗系统产品概述:该系统为全自动上下载片,并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑...

    产品型号:所在地:国外更新时间:2022-11-16 在线留言

  • NIE-3000离子束清洗系统

    详细摘要: NIE-3000离子束清洗系统产品概述:该系统为手动放片取片,但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块...

    产品型号:所在地:国外更新时间:2022-11-11 在线留言


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