半导体超纯水设备 芯片清洗设备 返回列表页

半导体超纯水设备 芯片清洗设备

EDI超纯水设备是当前生产工业用超纯水的可靠产品，经过了研究人员的大量实验和实践检验，能稳定连续进行超纯水生产，出水电阻率能达到16 MΩ*cm(25℃)。该设备采用了“双级反渗透+EDI技术"的处理工艺，具有产水速度快、无污染、不易结垢堵塞、自动化强的特点。

反渗透技术是指利用反渗透膜强大的离子透过能力，对超纯水中含有的有机物、金属离子、微生物、矿物质等进行过滤去除。经过两次反渗透膜过滤后的超纯水成分中基本只含有氢原子和氧原子两种成分。这个过滤过程中不需要化学反应试剂，在物理条件下就能进行，因而能耗低、投资成本小。

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EDI技术是实现超纯水深度脱盐的处理技术，它的进水一般是水质好的二级反渗透产水，经过EDI技术脱盐后产生的浓水水质比一级反渗透产水水质更好，可以回流到一级反渗透产水箱继续进行下一步处理。EDI阶段的处理过程中不会产生酸碱废液，能为企业避免对酸碱废液进行中和反应处理的麻烦，避免了污染，也提高了超纯水生产效率。

EDI超纯水设备运行连续稳定，无须在生产中更换树脂，还能实现自动化作业节约人工成本。该设备严格执行国家环保政策，出水质量稳定达标、可靠性强。将其生产出的超纯水应用在工业中，可以用来清洗硅晶圆、液晶显示器、发光二极管、光纤等工业产品，能避免对这些产品造成污染影响质量。

此外，超纯水在化妆品生产、食品饮料生产、生物实验、化学实验中也有很高应用价值，其纯度高、无菌、无污染，在生产中的影响几乎可以忽略不计，经济价值很高。