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TJ蒸镀掩膜/非金属掩膜/柔性电极掩膜高*密切割定制加工

华诺激光是一家集从事金属精密加工生产及销售制造型企业主营产品

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光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。

   光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，

掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版.