详细介绍
优良的切割性能及持久的使用寿命,提高了生产效率和加工品质
- 电铸结合剂
加工对象: Silicon wafer, Compound semiconductor wafers (GaAs, GaP, etc.), Oxide wafers (LiTaO3, etc.), etc
通过采用高性能超薄金刚石刀刃与铝合金法兰盘的一体化结构,提高了操纵性和加工品质的稳定性。搭配丰富的应用加工技术,在切割加工硅晶圆及以GaAs为代表的化合物半导体晶圆时,能够获得优良的加工品质。
- 可进行高难度的倒角切割(Bevel cut)和阶梯切割加工(Step Cut )
- 丰富的磨粒尺寸与结合剂品种,可满足于各种加工需求
- 超薄型切割刀片的装卸操作更为方便
- 由于提高了操作便利性,可大幅度缩短切割刀片更换及设备维护所需要的时间



技术规格
表示切割槽宽度

表示刀片厚度
