详细介绍

样品展示
技术特点
稳定性好
半导体泵浦激光标记系统采用半导体技术取代传统的电真空技术。激励源采用大功率半导体矩阵,大大延长了产品的寿命和系统的稳定性。
精度高
半导体泵浦激光打标系统输出光束质量更趋近理想模式,更适合于超精细加工,最小字符尺寸可达0.2mm,使激光标记的精度达到一个新的数量级。
速度快
半导体泵浦激光打标系统采用超精细的光学器件,其振镜速度远高于传统激光系统。
能耗低
半导体激光打标系统应用高效半导体矩阵,使激光转换效率大为提高。
可靠性高
半导体激光打标系统的系统集成度高,不需要高压电源,高压器件,极大地保证系统可靠性。
体积小高
度集成化的控制系统,有利于顾客更好地利用工厂空间。
应用领域
可雕刻金属及多种非金属材料。更适合应用于一些要求更精细、精度更高的场合。
应用于电子元器件、集成电路(IC)、电工电器、手机通讯、五金制品、工具配件、精密器械、眼镜钟表、首饰饰品、汽车配件、塑胶按键、建材、PVC管材、科研等行业。
适用材料包括:普通金属及合金(铁、铜、铝、镁、锌等所有金属),稀有金属及合金(金、银、钛),金属氧化物(各种金属氧化物均可),特殊表面处理(磷化、铝阳极化、电镀表面),ABS料(电器用品外壳,日用品),油墨(透光按键、印刷制品),环氧树脂(电子元件的封装、绝缘层)。
产品参数
项目名称 | 技术参数 |
---|---|
型号 | CX-DP50/75 |
激光输出功率 | 50W/75W |
激光波长 | 1064nm |
光束质量m2 | <6 |
激光重复频率 | ≤50KHz |
标准雕刻范围 | 110mmX110mm |
选配雕刻范围 | 70mmX70mm/100mmX100mm 150mmX150mm(可选) |
雕刻深度 | 0.50mm/0.75mm |
整机功率 | 1.5KW |
最小线宽 | 0.015mm |
重复精度 | ±0.0025mm |
雕刻线速 | ≤7000mm/s |
主机尺寸(L×W×H) | 主机系统:880×850×1200mm 冷却系统:720x440x720mm |
冷却系统 | 高精度恒温 ±0.1/循环冷水机 |