2019-08-01 08:17:34487
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产品清洁/活化/粗化等离子表面处理设备等离子体刻蚀在集成电路制造中已有40余年的发展历程，早70年代引入用于去胶，80年代成为集成电路领域成熟的刻蚀技术。等离子刻蚀采用的等离子体源常见的有容性耦合等离子体（CC
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