锐力嘉牌金相抛光粉是用于金相试样抛光的一种材料， 氧化铝抛光粉：主要成分为三氧化二铝（Al₂O₃），有不同的晶型和粒度。α-氧化铝硬度高、耐磨性好，适用于粗抛和半精抛；γ-氧化铝抛光粉颗粒较细，表面活性高，常用于精抛。
作用原理
- 利用抛光粉颗粒的机械磨削作用，在抛光过程中，抛光粉颗粒与金相试样表面相互摩擦，去除表面的微观凸起部分，使表面逐渐平整光滑。
- 部分抛光粉还可能与试样表面发生化学反应，如氧化铈抛光粉在抛光过程中，能与玻璃等材料表面的硅元素发生化学反应，生成易被去除的物质，从而提高抛光效率和质量。
适用范围
- 金属材料：如钢铁、铝合金、铜合金等金相试样的抛光，用于观察材料的组织结构、晶粒大小等微观特征。
- 半导体材料：如硅片、锗片等的抛光，为后续的光刻、蚀刻等工艺提供平整光滑的表面。
- 光学材料：如玻璃镜片、光学晶体等的抛光，以获得高光学质量的表面，满足成像、透光等性能要求。
选择方法
- 根据待抛光材料的硬度选择，硬度高的材料如硬质合金，可选用氧化铝等硬度较高的抛光粉；硬度较低的材料如铝合金，可选用氧化硅等相对较软的抛光粉。
- 根据抛光工艺要求选择，粗抛可选用粒度较大的抛光粉，以提高去除效率；精抛则需选用粒度细且均匀的抛光粉，以获得光滑的表面。
