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NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀

参考价面议
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称那诺—马斯特中国有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地国外
  • 厂商性质生产厂家
  • 更新时间 2022-12-06
  • 访问次数516

那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月,是服务大中华区(包含中国大陆,香港,中国台湾和澳门)的客户,同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室,提供销售和售后技术服务。


那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国,该公司是法国那诺-马斯*限公司于1992年在美国所创立的全资子公司,是一家国ji领xian的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。


自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备,正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD,用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD,溅射镀膜(反应溅、共溅 、组合溅),热蒸发和电子束蒸发,离子束刻蚀和反应离子刻蚀,原子层沉积,兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为全qiu薄膜设备的供应商,已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。


我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员,使得公司拥有yi流的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商,我们的目标是提供高品质的服务并始终维持zui高水平的集成度。



ALD,PECVD,RIE,磁控溅射,热蒸镀,电子束,离子束,热真空试验,晶圆清洗机,PA-MOCVD
产地 进口 售后保修期 12个月
销售区域 全国
NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品概述:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量,否则光刻胶将变得非常难以去除。NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时,旋转
NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀 产品信息


NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品概述:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量,否则光刻胶将变得非常难以去除。

NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时,旋转晶圆片以达到想要的均匀度。



NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品特点:

  • 14.5”不锈钢立体离子束腔体

  • 16cm DC离子枪1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板

  • 离子束中和器

  • 氩气MFC

  • 6”水冷样品台

  • 晶片旋转速度3、10RPM,真空步进电机

  • 步进电机控制晶圆片倾斜

  • 手动上下载晶圆片

  • 典型刻蚀速率:铜200 ?/min, 硅:500 ?/min

  • 6”范围内,刻蚀均匀度+/-3%

  • J限真空5x10-7Torr,20分钟内可达到10-6Torr级别(配套500 l/s涡轮分子泵)

  • 配套1000 l/s涡轮分子泵,J限真空可达8x10-8Torr

  • 磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化

  • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

  • 菜单驱动,4级密码访问保护

  • 完整的安全联锁



关键词:步进电机
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