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NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统

参考价面议
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称那诺—马斯特中国有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地国外
  • 厂商性质生产厂家
  • 更新时间 2022-12-07
  • 访问次数412

那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月,是服务大中华区(包含中国大陆,香港,中国台湾和澳门)的客户,同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室,提供销售和售后技术服务。


那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国,该公司是法国那诺-马斯*限公司于1992年在美国所创立的全资子公司,是一家国ji领xian的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。


自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备,正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD,用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD,溅射镀膜(反应溅、共溅 、组合溅),热蒸发和电子束蒸发,离子束刻蚀和反应离子刻蚀,原子层沉积,兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为全qiu薄膜设备的供应商,已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。


我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员,使得公司拥有yi流的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商,我们的目标是提供高品质的服务并始终维持zui高水平的集成度。



ALD,PECVD,RIE,磁控溅射,热蒸镀,电子束,离子束,热真空试验,晶圆清洗机,PA-MOCVD
产地 进口 售后保修期 12个月
销售区域 全国
NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统概述:NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电J或中空阴J射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的优S.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵,腔体可以达到
NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统 产品信息

NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统概述:NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电J或中空阴J射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的优S.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵,腔体可以达到低至10-7 torr的真空。标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个MFC.带有*气体分布系统的平面中空阴J等离子源使得系统可以满足广大范围的要求,无论是等离子强度、均匀度,还是要分别激活某些活性组份,这样系统可以覆盖z广的可能性来获得各种沉积参数。


NPE-3500-1.png


NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统应用:

  • 等离子诱导表面改性:就是通常所说的用等离子实现表面改性(如亲水性、疏水性等)

  • 等离子清洗:去除有机污染物

  • 等离子聚合:对材料表面产生聚合反应

  • 沉积二氧化硅、氮化硅、DLC(类金刚石),以及其它薄膜

  • CNT(碳纳米管)和石墨烯的选择性生长:在需要的位置生长CNT或石墨烯。


特点:

  • 紧凑型独立式系统

  • 不锈钢或铝制腔体

  • J限真空可达10-7Torr

  • RF淋浴头,HCD或微波等离子源

  • 高达12”(300mm)直径的样品台

  • RF射频偏压样品台

  • 水冷样品台

  • 可加热到的800 °C样品台

  • 加热的气体管路

  • 加热的液体传送单元

  • 抗腐蚀的涡轮分子泵组

  • 1路载体气体以及3路反应气体,带MFC

  • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

  • 菜单驱动,4级密码访问保护

  • 完整的安全联锁



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