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NRE-3500型RIE-PE刻蚀机

参考价面议
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称那诺—马斯特中国有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地国外
  • 厂商性质生产厂家
  • 更新时间 2022-11-18
  • 访问次数458

那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月,是服务大中华区(包含中国大陆,香港,中国台湾和澳门)的客户,同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室,提供销售和售后技术服务。


那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国,该公司是法国那诺-马斯*限公司于1992年在美国所创立的全资子公司,是一家国ji领xian的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。


自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备,正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD,用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD,溅射镀膜(反应溅、共溅 、组合溅),热蒸发和电子束蒸发,离子束刻蚀和反应离子刻蚀,原子层沉积,兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为全qiu薄膜设备的供应商,已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。


我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员,使得公司拥有yi流的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商,我们的目标是提供高品质的服务并始终维持zui高水平的集成度。



ALD,PECVD,RIE,磁控溅射,热蒸镀,电子束,离子束,热真空试验,晶圆清洗机,PA-MOCVD
产地 进口 售后保修期 12个月
销售区域 全国
NRE-3500型RIE-PE刻蚀机概述:独立式RIE刻蚀PE刻蚀一体机,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持至大到12“的晶圆片。腔体为超净设计,并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的J限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工
NRE-3500型RIE-PE刻蚀机 产品信息

NRE-3500型RIE-PE刻蚀机概述:独立式RIE刻蚀PE刻蚀一体机,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持至大到12"的晶圆片。腔体为超净设计,并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的J限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。


NRE-3500型RIE-PE刻蚀机是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制,该系统具有高度的可重复性。


NRE-3500(A)-1.png


NRE-3500型产品特点:

  • 铝质腔体或不锈钢腔体

  • 支持各向同性刻蚀和各向异性刻蚀两种刻蚀模式

  • 不锈钢立柜

  • 能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属

  • 典型的硅刻蚀速率,400 ?/min

  • 高达12"的阳J氧化铝RF样品台

  • 水冷及加热的RF样品台

  • 大的自偏压

  • 淋浴头气流分布

  • J限真空5x10-7Torr,20分钟内可以达到10-6Torr级别

  • 涡轮分子泵

  • 至多支持5个MFC

  • 无绕曲气体管路

  • 自动下游压力控制

  • 双刻蚀能力:RIE以及PE刻蚀(可选)

  • 终点监测

  • 气动升降顶盖

  • 手动上下载片

  • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

  • 菜单驱动,4级密码访问保护

  • *的安全联锁

  • 可选ICP离子源以及低温冷却样品台,用于深硅刻蚀


NRE-3500型产品型号:

  • NRE-4000:基于PC计算机全自动控制的独立式系统,占地面积26“D x 44"W

  • NRE-3500:基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统,占地面积26“D x 26"W

  • NRE-3000:基于PC计算机全自动控制的台式系统,占地面积26“D x 26"W

  • NRP-4000:RIE/PECVD双系统

  • NDR-4000:深RIE刻蚀(深硅刻蚀)系统


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