J.A. Woollam獲得的 RCE 技術將旋轉補償器橢偏儀與高速 CCD 檢測相結合，可在幾分之一秒內以多種配置收集整個光譜（數百個波長）。 M-2000 是款真正擅長從in-situ監測和鍍膜過程控製到大面積均勻性量測和表徵薄膜折射率的橢偏儀。沒有其他橢偏儀技術能夠更快地獲得全光譜橢偏數據量測。除此以外，M-2000橢偏儀也具有高度的擴充性，客戶可自行選擇所需的波長範圍，電控平台大小
多角度寬光譜橢偏儀M-2000 特點
- 先進的橢偏儀技術：旋轉補償（RCE）技術的使用，使M-2000獲得了超高的準確性和重複性。
- 快速光譜探測：RCE設計結合先進的CCD探測技術，使得所有波長點上的數據可以同時準確測量。
- 超寬光譜範圍：同時測量深紫外到近紅外的超過700個數據點。
- 靈活的系統組合：模組化的設計使M2000橢偏儀即可以安裝到任何在鍍膜腔體上(in-situ)，進行即時量測，也可以選擇桌上型電控平台基座。
- 準確：先進的設計保證各種樣品都能獲得準確的橢偏測量。
- 可透過robot整合為線上全自動化橢偏儀
- VCSEL量測
- 氮氧化物薄膜量測
- ITO量測
- OLED有機材料薄膜量測
- Micro LED鍍層量測
多角度寬光譜橢偏儀M-2000
