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1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD

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  • 公司名称沈阳科晶自动化设备有限公司
  • 品       牌沈阳科晶/KEJING
  • 型       号
  • 所  在  地
  • 厂商性质生产厂家
  • 更新时间 2021-03-15
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沈阳科晶自动化设备有限公司是由毕业于美国麻省理工学院的江晓平博士于2000年5月创建。与合肥科晶材料技术有限公司、深圳市科晶智达科技有限公司同属于科晶联盟。自*SYJ-150低速金刚石切割机诞生以来,沈阳科晶便开始了以赶超国外同行、材料分析设备潮流为目标的发展历程。时至今日,已经拥有涵盖材料切割、研磨、抛光、涂膜、镀膜、混合、压轧、烧结、分析等领域以及相关耗材的上百种产品,可以满足晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿样、金属材料、耐火材料、复合材料、生物材料等制备分析的全套需要。  沈阳科晶立足国内市场实际情况,以提供实用的产品为己任。产品的质量、精度在向国外企业看齐的基础上,产品的价格定位却仅仅是其几分之一。的性价比不仅吸引了众多国内客户,而且令挑剔的外国客商也称赞不已,产品远销于印度、马来西亚、土耳其、波兰、突尼斯、澳大利亚等国家,并大量出口于美国。  沈阳科晶一直致力于高等院校、研究所、生产企业的科研服务,即产品定位于研究市场,主要面向广大高等院校、科研机构、实验室以及工厂的小规模生产。多年以来,已与全国众多高校、研究院所建立了良好的合作、服务关系。其中北京大学、清华大学、浙江大学、哈尔滨工业大学、东北大学等高校,*金属研究所、上海硅酸盐研究所、中国科学地质与地球物理研究所等科研机构,中国航天工业集团公司、中国船舶重工集团公司、攀钢集团有限公司等*企业都是*合作的荣誉客户。  沈阳科晶为了更好地服务客户,专门设立了开放式专业实验室,配备了优秀的专业技术人员。在这里,不仅可以提供亲身的产品体验环境,而且还可得到专业人员的操作指导。开设以来,制作的样品达上千件,接待来访客户参观百余次,其中包括多次外国友人的来访。在此,沈阳科晶全体员工诚挚地欢迎您的到来,并希望您能提出宝贵的意见与建议。此外,沈阳科晶拥有优质、高效、专业的销售咨询、售后服务团队,能够为每一位客户提供采购建议与方案、完善的使用指导与售后服务。使每一位客户的需求得到满足是沈阳科晶每个员工不懈努力的目标。  沈阳科晶一路走过的历程,是为我国材料研究事业全力贡献的历程,是以实际行动将自己打造成国内材料分析设备的历程,是与国外同行不断缩小差距的历程,是与广大客户相扶相持的成长历程。虽一路充满坎坷与荆棘,但坚持不懈的沈阳科晶人仍全力以赴的前行。秉承这份坚持,相信在不久的将来,沈阳科晶也将会成为市场上专业的、杰出的材料分析设备品牌,沈阳科晶的明天会更加灿烂辉煌。
测厚仪,金相显微镜,维氏硬度计,表面粗糙度仪
1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD
1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD 产品信息

产品简介:1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD主要适用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪,该磁控溅射头可安装直径为1"的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配,因此可溅射各种靶材,如金属靶材(如金、银、铜等材料)、绝缘靶材(如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶材等)、磁性靶材、非磁性靶材等。采用高真空的结构设计,可提高镀膜质量。1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD配装有环形NdFeB永磁体在溅射头上,以保证溅射镀膜的效率和薄膜在样品表面分布的均匀性。

 

产品型号

1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD

主要特点

1、采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作。

2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均匀分布。

3、磁体表面涂有保护层,以防止冷却水的腐蚀,延长其使用寿命。

4、标准的HN型接头,可与DCRF电源相匹配。

5、安装采用标准真空接头,便于操作。

6、靶材更换较为简单,无需调整溅射头的高度。

7、配有铜靶1块。

技术参数

1、溅射头直径:Ø46.3mm

2所用靶材:直径1"±0.02"(25.4mm),大厚度1/8"(3mm        

3磁环:NdFeB稀土永磁体

4、柄杆直径:外径3/4"

5、电路接头:标准HN型接头,可与DCRF电源相匹配

6、所需功率:DC250WRF100W

7、阴极溅射电流:大3A

8、阴极溅射电压:200V-1000V

9、工作压力范围:1mtorr-1torr

10、溅射厚度均匀性:采用磁控溅射在氧化非晶硅片上沉积一个20nm的薄膜,直流功率150W真空环境

                                       10mtorr1"铜靶,与基片距离75mm

                                       

11、水冷却:水管接头为外径0.25"快插头,所需水流量1/2GPM,进水温度<20

                       

12、高真空快速接头:为赠送品,数量1个,内径为0.75",可将溅射头安装在真空腔体上,真空腔体上的安装

             孔直径为1",真空腔体的壁厚不得大于1"

                                       

13、倾斜装置:溅射头相对于柄杆大可倾斜±45˚,设有刻度线,可观察到靶头倾斜的角度

                         

产品规格

尺寸:14"355.6mm);重量:1.36kg

可选配件

1、循环水冷机,流量为16L/min,水箱容积为6L

2100W小型手动匹配型射频电源RF-100-LD,可自行搭建溅射镀膜仪。

主要应用

在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜,应用如下:

薄膜涂覆、半导体器件、磁记录介质、超导薄膜、量子计算器件、MEMS、生物传感器、纳米技术、超晶格、颗粒膜、记忆合金、组合薄膜沉积、光学薄膜

关键词:传感器

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