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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

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  • 公司名称沈阳科晶自动化设备有限公司
  • 品       牌沈阳科晶/KEJING
  • 型       号
  • 所  在  地
  • 厂商性质生产厂家
  • 更新时间 2021-03-15
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沈阳科晶自动化设备有限公司是由毕业于美国麻省理工学院的江晓平博士于2000年5月创建。与合肥科晶材料技术有限公司、深圳市科晶智达科技有限公司同属于科晶联盟。自*SYJ-150低速金刚石切割机诞生以来,沈阳科晶便开始了以赶超国外同行、材料分析设备潮流为目标的发展历程。时至今日,已经拥有涵盖材料切割、研磨、抛光、涂膜、镀膜、混合、压轧、烧结、分析等领域以及相关耗材的上百种产品,可以满足晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿样、金属材料、耐火材料、复合材料、生物材料等制备分析的全套需要。  沈阳科晶立足国内市场实际情况,以提供实用的产品为己任。产品的质量、精度在向国外企业看齐的基础上,产品的价格定位却仅仅是其几分之一。的性价比不仅吸引了众多国内客户,而且令挑剔的外国客商也称赞不已,产品远销于印度、马来西亚、土耳其、波兰、突尼斯、澳大利亚等国家,并大量出口于美国。  沈阳科晶一直致力于高等院校、研究所、生产企业的科研服务,即产品定位于研究市场,主要面向广大高等院校、科研机构、实验室以及工厂的小规模生产。多年以来,已与全国众多高校、研究院所建立了良好的合作、服务关系。其中北京大学、清华大学、浙江大学、哈尔滨工业大学、东北大学等高校,*金属研究所、上海硅酸盐研究所、中国科学地质与地球物理研究所等科研机构,中国航天工业集团公司、中国船舶重工集团公司、攀钢集团有限公司等*企业都是*合作的荣誉客户。  沈阳科晶为了更好地服务客户,专门设立了开放式专业实验室,配备了优秀的专业技术人员。在这里,不仅可以提供亲身的产品体验环境,而且还可得到专业人员的操作指导。开设以来,制作的样品达上千件,接待来访客户参观百余次,其中包括多次外国友人的来访。在此,沈阳科晶全体员工诚挚地欢迎您的到来,并希望您能提出宝贵的意见与建议。此外,沈阳科晶拥有优质、高效、专业的销售咨询、售后服务团队,能够为每一位客户提供采购建议与方案、完善的使用指导与售后服务。使每一位客户的需求得到满足是沈阳科晶每个员工不懈努力的目标。  沈阳科晶一路走过的历程,是为我国材料研究事业全力贡献的历程,是以实际行动将自己打造成国内材料分析设备的历程,是与国外同行不断缩小差距的历程,是与广大客户相扶相持的成长历程。虽一路充满坎坷与荆棘,但坚持不懈的沈阳科晶人仍全力以赴的前行。秉承这份坚持,相信在不久的将来,沈阳科晶也将会成为市场上专业的、杰出的材料分析设备品牌,沈阳科晶的明天会更加灿烂辉煌。
测厚仪,金相显微镜,维氏硬度计,表面粗糙度仪
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪 产品信息

产品简介:VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED

 

产品名称

VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

产品型号

VTC-600-3HD

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套

       接头)及减压阀

4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm承重200kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。

2可制备多种薄膜,应用广泛。

3体积小,操作简便。

4、整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。

5根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。

技术参数

1、电源电压:220V  50Hz

2、总功率:<2.5KW

3、极限真空度:< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到 E-5mbar

4、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

5、靶枪数量:3

6、靶枪冷却方式:水冷

7靶材尺寸:Ø2,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

8、直流溅射功率:500W(可选)

9、射频溅射功率:300W/500W(可选)

10载样台:Ø140mm,可根据客户需求选配加装偏压功能,以实现更高质量的镀膜。

11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调

12、保护气体:ArN2等惰性气体

13、进气气路:质量流量计控制2路进气,1流量为100 SCCM1流量为200 SCCM

产品规格

主机尺寸:500mm×560mm×660mm整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

标准配件

1

直流电源控制系统

2

2

射频电源控制系统

1

3

膜厚监测仪系统

1

4

分子泵(德国进口)

1

5

冷水机

1

6

冷却水管(Ø6mm

4

可选配件

金、铟、银、等各种靶材

掩膜版

振动样品台

 


 

 

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