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昆山国华电子专业等离子设备代工服务

参考价面议
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称昆山国华电子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       号RTR2000L-W500
  • 所  在  地苏州市
  • 厂商性质生产厂家
  • 更新时间 2019-08-14
  • 访问次数789

昆山国华电子科技有限公司是一家集等离子技术研发、生产、销售和推广于一体的高科技公司:秉承“服务创造价值、技术成就未来”的宗旨,为客户提供表面处理领域的整体解决方案。

      公司由多名*从事等离子体技术应用研究,设备制造和销售的业内*人事创建。核心技术发展于欧洲,同时充分借鉴欧美的*技术,并通过与国内外研发机构合作,整合各行业的资源优势,生产出多系列具有自主知识产权的高性能的等离子体处理系统。集团合作团队包括 EUROPLASMA、PSM等,应用领域涉及电子、光电、汽车、塑胶、纺织、生物、医疗、化工、日用品及家电等行业。

      公司成立以来已为众多企业、大学院校、研究机构提供等离子体处理设备和解决方案。售前可免费提供试样和方案认证,以竭诚服务各领域科研项目为公司的宗旨。

      我们倡导技术创新,充分发挥新技术在企业经营中的主导作用,以满足客户的个性化需求为己任,为客户提供与等离子处理系统相关技术的支持与服务,致力于成为的行业!

等离子表面处理设备、低温等离子设备、电浆机、等离子代加工服务、等离子方案解决提供
产地 国产 售后保修期 24个月
销售区域 全国,华东,华南,华北,华中,东北,西南,西北,港澳台,海外
昆山国华电子专业等离子设备代工服务,其应用在行业生产过程起到很重要作用,但是还有很多人不知道为什么需要等离子表面处理机。等离子表面处理机产生的等离子体是物质的一种存在的状态,这些物质通常会以液态、固态、气态三种存在;还有四种状态就是等离子体状态,在特殊的情况下,如地球大气中电离层中的物质和太阳表面的物质。
昆山国华电子专业等离子设备代工服务 产品信息

昆山国华电子专业等离子设备代工服务

昆山国华电子科技为您普及一下等离子相关知识:

等离子表面处理机中存在有些物质呢?当处于高速运动状态下的电子处于激活状态的中性原子、分子、原子团;离子华的原子、分子;分子解离反应过程中生成的紫外线;未反应的分子、原子等,这些物质在总体上都是保持持电的中性态态。等离子表面处理机的技术作为一种新型的材料表面改性方法,等离子表面处理设备因效果好被广泛用各领域中,下面通几个方面给大家介绍:

金属表面去油及清洗:金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层,在进行溅射、油漆、粘合、键合、焊接、铜焊和PVD、CVD涂覆前,需要用等离子表面处理设备来得到*洁净和无氧化层的表面。

1.等离子表面处理机离子刻蚀:在等离子刻蚀过程中,通过处理气体的作用,被刻蚀物会变成气相。处理气体和基体物质被真空泵抽出,表面连续被新鲜的处理气体覆盖。不希望被刻蚀部分要使用材料覆盖起来(例如半导体行业用铬做覆盖材料)。
2.
等离子表面处理机刻蚀和灰化:聚四氟(PTFE)在未做处理的情况下不能印刷或粘合。*,使用活跃的钠碱性金属可以增强粘合能力,但是这种方法不容易掌握,同时溶液是有毒的。使用等离子方法不仅仅保护环境,还能达到更好效果。
3.
等离子表面处理机在塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洗:塑料、玻璃、陶瓷与聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟(PTFE)等等一样是没有极性的,因此这些材料在印刷、粘合、涂覆前要进行处理。同时,玻璃和陶瓷表面的轻微金属污染也可以用等离子方法清洗。等离子处理与灼烧处理相比不会损害样品。同时还可以十分均匀地处理整个表面,不会产生有毒烟气,中空和带缝隙的样品也可以处理。 
·不需要用化学溶剂进行预处理 
·所有的塑料都能应用 
·具有环保意义 
·占用很小工作空间 
·成本低廉 
等离子表面处理机的效果可以简单地用滴水来验证,处理过的样品表面*被水润湿。长时间的等离子处理(大于15分钟),材料表面不但被活化还会被刻蚀,刻蚀表面具有极小的表面接触角和润湿能力。

小型等离子清洗/刻蚀机的特殊应用:
小型等离子清洗机在处理TEM样品具有明显的优势。处理后生成物为二氧化碳和水,不会对环境造成污染,由于TEM工作在非常洁净的环境中,因此等离子清洗时目前处理TEM样品为理想的技术。优势在于:处理后*残留物;可以防止TEM样品在以后的使用中形成污斑;在非常敏感的薄膜的微量分析中,使用低能量的X光,不会形成吸收层;在高扩大率下得到更好的数据;真实的表面呈现和表面成分分析;成本低、便于操作。
另外,小型等离子清洗/刻蚀机还应用于考古学、石棉分析、医学研究、微生物工程等领域。


昆山国华电子专业等离子设备代工服务: 

电浆与材料表面可产生的反应主要有两种,一种是靠自由基来做化学反应,另一种则是靠等离子作物理反应,以下将作更详细的说明。

(1)化学反应(Chemical reaction) 在化学反应里常用的气体有氢气(H2)、氧气(O2)、甲烷(CF4)等,这些气体在电浆内反应成高活性的自由基,其方程式为: 这些自由基会进一步与材料表面作反应。

其反应机理主要是利用等离子体里的自由基来与材料表面做化学反应,在压力较高时,对自由基的产生较有利,所以若要以化学反应为主时,就必须控制较高的压力来近进行反应。

(2)物理反应(Physical reaction)

主要是利用等离子体里的离子作纯物理的撞击,把材料表面的原子或附着材料表面的原子打掉,由于离子在压力较低时的平均自由基较轻长,有得能量的累积,因而在物理撞击时,离子的能量越高,越是有的作撞击,所以若要以物理反应为主时,就必须控制较的压力下来进行反应,这样清洗效果较好,为了进一步说明各种设备清洗的效果。 
等离子体清洗机的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。 因为等离子表面处理机表现在化学变化和物理变化。物理变化时,是将材料表面改性粗化,蚀刻后表面的突起物增多,增加表面积。如果暴露在有污染的空气中,混入灰尘、油污、杂质,表面能会逐渐减低。化学变化时,等离子处理时会引入含氧极性基团,如羟基和羧基,这些活性分子具有时效性,容易与其它物质发生化学变化,处理后表面能保留的时间不好确定。所以等离子处理后,马上进行下一道工序,避免表面能衰退做无用功。

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