双变频金相磨抛机MP-2C

MP-2C金相试样磨抛机是采用单片机的研磨抛光设备，双盘独立控制，机身采用ABS材料，外形新颖美观，防腐蚀、经久耐用

MP-2C金相试样磨抛机是采用单片机的研磨抛光设备，双盘独立控制，机身采用ABS材料，外形新颖美观，防腐蚀、经久耐用；牢固的大型支撑底盘设计确保了精密的回转平衡度；磨盘无级调速或两档调速，使用寿命长且噪音低，具备高效的研磨抛光体验；配备冷却水管，可调整旋转方向进行湿磨；配备磨盘底部冲洗功能，防止磨削物累积沉淀；使用时仅需更换砂纸及抛布，就能完成各种试样的粗磨、细磨及抛光等各道工序，是实验室的理想金相制样设备。

主要参数：

磨盘直径：　230mm（可选250mm）　 转　　速：　100-1500r/min（无极变速）　 电　　机：　变频电机/220V/350W　 外形尺寸：　755×660×350mm　 净　　重：　75Kg