本公司真空镀膜设备*实现全自动控制系统，可实现真正意义上的“一键式"操作，包括：抽真空，智能加热、氩离子轰击清洗、电弧轰击清洗、离子源轰击清洗、镀膜、冷却、冷却水自动切换、氮气冷却等功能。只有真正意义的全自动才能保证镀膜的稳定性和重复性。 本公司真空镀膜设备对全部设定和实际镀膜过程参数实时自动记录IPC硬盘，形成数据库，保存过去一年来的所有数据资料。操作人员可以在时序曲线上方便查找全部镀膜过程状态细节。为工艺开发工程工作，以及镀膜生产品质管理工作提供关键性的支持和帮助。

概览

关于4G阴极电弧源

大族真空镀膜设备技术团队研发的镀膜设备配置我公司专有的阳极层矩形气体离子源，采用气体离子源产生的气体离子代替阴极电弧源产生的金属离子对被镀工件表面进行镀膜前的离子轰击清洗（溅射）。从而*避免了金属微液滴的问题，轰击溅射更柔、更*、膜基结合力更高。该设备配置有专为镀膜开发的4G阴极电弧源。

4G阴极电弧源采用永磁场和电磁场共同驱动电弧移动：弧斑更细碎、移动更快、烧蚀更均匀。显著抑制微液滴的产生，显著提高金属等离子体的输出，改善所镀膜层的致密性和光亮度。该电弧技术是国际的技术，在多个客户处，不论是工具涂层的应用还是模具涂层的应用，都可以与国外涂层设备有效竞争。

4G阴极电弧源优势

大族的4G电弧技术在导电镀钛领域取得了非常好的效果。做出的镀层质量可以和国外涂层公司的产品直接竞争，也奠定了大族涂层设备在 国内的优势。

本技术采用特殊的电磁场设计驱使电弧弧斑跑动更快，弧斑在同一位置停 留的时间更短，弧斑更细碎，单体能量更小，有效地降低微液滴的尺寸和数量；

放电的弧斑数量更多，产生的等离子体更强，在电磁场的驱动下，大大增强了真空室内的等离子体密度，改善离子反应镀钛的环境；

微液滴减少了，极大的提高了电弧涂层的表面光亮度，镀层色泽更加饱满。

特点

更好的涂层性能

更高的可靠性

超高的生产效率

技术参数

功能指标

1. 极限真空：3.0 x 10-4 Pa
2. 漏气率：> 3 Hr/Pa
3. 抽气时间（室温空真空室条件下由大气抽至4.0 x 10-3 Pa）< 15 min

设备介绍

真空室：

1. 带增强水冷壳的真空室，采用304不锈钢材料制造。
2. 真空室壳体内外表面抛光，外表面抛光后做喷丸，并作防指纹表面处理。
3. 真空室内部温度达到500℃，能够长期工作在不低于500℃高温环境中。
4. 配置镀后氮冷却功能，为防止真空室正压，应配置真空压力开关等安全装置。

计算机系统：

1. 采用手动、自动一体机的控制，用户可以通过手动控制面板进行手动 镀膜操作，也可以采用一键式全自动控制方式。
2. 整个控制系统建立了严密的互锁机构，保证设备的使用安全和操作员 的人身安全。
3. 有在线监测、报警和帮助系统。
4. 设备上所有工作状态参数数据实现自动（曲线）记录，方便随时研究查 询和生产质量管理（QC）。
5. 所有镀膜工艺（菜单）以纯数据包形式存储在IPC中，随时调用，方便管理

加热系统：

1. 一套高功率电加热管(4.5X6=27 KW)在1小时内真空室达到500度，并在500度保持3 小时以上，保证设备可靠运行。

转架系统：

1. 工件转架转速控制采用变频器驱动，同时，为了保证可靠和安全，在转架主轴上安 装了速度编码器，利用速度编码器实时监测转架的实际转速，当实际转速和设定转速的差别超过一定比例时，系统会给操作人员报警提示，工件转架转动异常，需要作出相应的处理，否则系统会结束自动工艺。
2. 在转架驱动电机和主轴的连接机构中，安装有3支尼龙柱，当发生转动过载时，3支尼龙柱会立即切断，以保护转架驱动电机不被损坏，也保证真空室内产品不被损坏。由于此时转架与电机脱开，编码器检测不到转速，系统会给操作人员报警提示，工件转架转动异常，需要作出相应的处理，否则系统会结束自动工艺。

主要应用技术：

GISETCH：等离子刻蚀清洗技术

气体离子源（GIS）产生的气体等离子体对被镀工件表面进行镀膜前的气体离子轰击清洗（溅射和刻蚀），*代替传统的阴极电弧金属离子轰击清洗，避免了金属微液滴 的问题。气体离子轰击溅射更温柔、更*、 膜基结合力更高。

4G-CAE：第四代阴极电弧技术

配置了2到4组（8-16套）专为金属镀膜开发的新一代 阴极电弧源系统，实现永磁场和电磁场协同驱动弧斑移动：弧斑更细碎、移动更快、烧蚀更均匀， 显著抑制微液滴的产生，提高金属等离子体的输出， 改善所镀膜层的反应性、致密性和光亮度。