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划片与裂片设备

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更新时间:2021-12-01 13:10:10浏览次数:371次

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半导体晶圆激光切割设备设备特点机型特点设备类型DSI9486DSI9286DSI9199DSI9386加工类型皮秒改质切割纳秒改质切割皮秒改质切割皮秒改质切割切割尺寸2

半导体晶圆激光切割设备

设备特点

机型特点

设备类型DSI9486DSI9286DSI9199DSI9386
加工类型皮秒改质切割纳秒改质切割皮秒改质切割皮秒改质切割
切割尺寸2″,4″,6″2″,4″,6″,8″2″,4″,6″2″,4″,6″
x轴(工作台)切割范围180mm200mm180mm180mm
切割速度1000mm/s1000mm/s1000mm/s1000mm/s
Y轴(工作台)切割范围180mm200mm180mm180mm
Y轴重复精度0.001mm0.001mm0.001mm0.001mm
Z轴移动量分辨率0.0001mm0.0001mm0.0001mm0.0001mm
重复精度0.001mm0.001mm0.001mm0.001mm
θ轴定位精度15 arc – sec15 arc – sec15 arc – sec15 arc – sec
旋转角度210deg210deg210deg210deg
激光器类型超快激光器纳秒非超快激光器超快激光器超快激光器
其他参数自动化程度全自动全自动全自动全自动
控制系统PC+PLCPC+PLCPC+PLCPC+PLC
电力需求220V/单相/50Hz/15A220V/单相/50Hz/15A220V/单相/50Hz/15A220V/单相/50Hz/15A
压缩空气0.4~0.8MPa

压缩空气接口:Φ12mm

0.4~0.8MPa

压缩空气接口:Φ12mm

0.4~0.8MPa

压缩空气接口:Φ12mm

0.4~0.8MPa

压缩空气接口:Φ12mm

环境温度20-25℃20-25℃20-25℃20-25℃
环境湿度20%-60%20%-60%20%-60%20%-60%
加工材质滤光片等玻璃材质LED蓝宝石碳化硅

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