掺硼金刚石（BDD） 返回列表页

掺硼金刚石膜（BDD）具有非常宽的电化学电势窗口和较小的背景电流，加上金刚石良好的化学惰性（常温下不与任何酸碱介质反应），不易结垢，因此是电化学电极材料的。BDD电极已经广泛应用于污水处理、电解和电化学合成，以及基于电化学原理的探测器、传感器。

产品应用：

附着在金属电极上的掺硼金刚石涂层存在以下缺点：不能保证消除缺陷，尤其是在角部和边缘处，存在破坏气密密封的可能，金属衬底容易被腐蚀。

增大的应力/失配应力使金刚石涂层存在破损脱落的可能。我司采用BDD自支撑膜，可以解决以上问题。

产品参数：

自支撑BDD的厚度范围为200~1000 μm，此厚度可以脱离基材独立使用，避免了膜基分离引起的BDD电极失效；

BDD电极的电阻率为1016 Ω•cm，最小可达9×10³ Ω•cm；

机械性能优良，化学性质稳定，有耐腐蚀性能，可以长期应用在各类检测环境；

适用性广，可根据电极应用的技术要求灵活调整其物理化学性能指标(如电阻率、厚度等)。