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当前位置:成都汉普升科技有限公司>>电阻电子束沉积>> 成都真空设备厂家 半导体制程PVD沉积台
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更新时间:2023-11-06 16:26:38浏览次数:204次
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详情介绍
●本装置使用电阻蒸发、电子束蒸发和离子源辅助清洗、辅助沉积和原位刻蚀进行复合,用于制备特种薄膜,薄膜具有均匀性、附着力、抗损伤、低颗粒物污染等特点,是半导体制程中关键工序的核心装备,其技术长期被美国、日本等国技术所垄断,属于国内卡脖子装备,也是制约国内半导体领域自主可控的关键设备,该设备的技术突破和产业化对国内半导体产业发展具有积极意义。
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