半导体EDI超纯水设备 滨润 返回列表页

随着半导体、电子行业的技术发展，对水处理设备的需求也越来越广泛，国内外超纯水设备的技术也获得了飞速的发展和广泛的应用，涌现出一大批超纯水处理方面领域的公司企业，。目前国内的超纯水制备行业正处于快速的发展阶段，但是相比国外的发展水平仍有很大的差距。随着国内半导体生产线的普及，超纯水制备设备的需求越来越大，目前国内的现代超纯水水质以电阻率、TOC（总有机碳）、细菌、微粒、DO（溶解氧）、可溶硅、离子和金属杂质等参数来表征，它们对器件影响大。因此，这就需要设计一台能够制备满足指标要求的浸没液超纯水处理系统，以保证光刻机的正常运行。超纯水处理系统是制备超纯水的自动控制系统，在光刻机中它作为浸没控制系统中的子模块，主要负责对超纯水的制备，对超纯水污染物质进行处理，并达到浸没供给液各项指标要求。

超纯水设备

EDI超纯水设备工作原理：

EDI工作原理如图所示。EDI膜块中将一定数量的EDI单元用格板隔开，形成浓水室和淡水室。又在单元两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别透过阴阳离子交换膜迁移到浓水室而在淡水室中去除。如下图：

电场使进水中的水分子在离子交换树脂界面离解成H+及OH-，并不断地再生淡水室中阴、阳离子交换树脂。离子交换树脂中的阴、阳离子在再生过程中受到相应正负电极的吸引，透过阳、阴离子交换树脂向所对应的离子膜的方向迁移。当这些离子透过交换膜进入浓室后，H+及OH-重新结合成水。这种H+及OH-的产生、湮灭及阴、阳离子迁移正是离子交换树脂得以实现连续再生的机理。

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