GRISH氧化铈研磨液 本公司新开发的以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点，适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。产品使用方便、悬浮性好，抛光效率高、抛光精度达到纳米级，质量稳定可靠。 典型产品型号如下，也可根据用户需要配制不同浓度和不同粒度的氧化铈研磨液。 型号 | 粒度(D50，μm) | 浓度（wt％） | 主要用途 | CO-1D | 0.8-1.2 | 20 | MTRJ研磨,玻璃抛光 | CO-1/2D | 0.4-0.6 | 20 | MTRJ研磨,玻璃抛光 | CO-1/4D | 0.2-0.3 | 20 | 抛光 |
注意事项： 1． 使用前请先摇匀； 2． 使用时，可用少量的水加以稀释。 包 装：500 ml/瓶。 储 存：本品需在0 ℃以上储存，防止结冰，在0 ℃以下因产生不可再分散结块而失效。 安全信息：详见本产品的材料安全信息（MSDS）。 应用范围： 1、硅晶圆片抛光;锗片抛光;砷化镓抛光;磷化铟抛光;光学晶体抛光;蓝宝石衬底抛光; 2、LED衬底抛光;硒化锌抛光;光纤连接器抛光;光纤跳线抛光;玻璃抛光;石英抛光； | 
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