生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW 返回列表页

产品型号

生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：不需要

2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地

3、气：设备腔室内需充注气体，需自备气瓶气源

4、工作台：尺寸1600mm×600mm×700mm，承重150kg以上

5、通风装置：需要

主要特点

1、由OTF-1200X-4单温区炉演变而来的紧凑型CVD炉。

2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层，可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。

3、带样品支架的右法兰是滑动的，方便样品的快速取放。

4、左侧的小加热器可对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热，不锈钢加热腔外径30mm、长150mm，高工作温度600℃。

5、左边法兰（在加热器与CVD炉之间）装有4个1/4″卡套连结的通气管，具有密封和气体通道的作用。

6、PID自整定数字控制器，可以设置30段升降温程序。

7、选配相关软件可用计算机进行控温。

8、已通过CE认证。

技术参数

1、额定电压：单相AC 220V  50Hz/60Hz  

2、额定功率：3KW（需20A的空气开关）

3、石英管：外管外径Ø110mm，内径Ø102mm，长381mm

4、加热区域：CVD炉400mm，加热器150mm

5、工作温度：CVD炉高1100℃（<2h），连续工作200℃-1000℃，大升降温速率10℃/min；

         　　加热器连续工作0-500℃，大升降温速率10℃/min

6、控温精度：±1℃

7、热电偶：K型

8、右法兰：一个3″石英样品支架，与石英挡板、法兰连成一体，设有KF25真空快接口，以及水冷接口（可选 配水冷机，避免O型圈融化）

9、左法兰：有2个独立1/4″口，可单独将任何气体通入炉内，一路1/4″口将预热气体通入CVD炉，一路1/4″口

　　       将不加热的气体通入炉内，并通过炉内的T型结构与加热气体汇合

产品规格

尺寸：1200mm×450mm×510mm；重量：100kg

可选配件

1、水冷机

2、控温软件