当前位置：沈阳科晶自动化设备有限公司>>真空泵组>> SKCC-GZB-X高真空磁控溅射永磁靶头（公、自旋转靶头）
产品简介：SKCC-GZB-X高真空磁控溅射永磁靶头（公、自旋转靶头）适用靶材种类较广，如金属/绝缘靶或磁性/非磁性靶材。配装有环形永磁体在靶头上，以保证溅射镀膜的效率和均匀性。可与DC或RF电源配合使用。
产品型号 | SKCC-GZB-X（高真空磁控溅射公、自旋转靶头） |
产品规格 | 1寸，SKCC-GZB-1 2寸，SKCC-GZB-2 3寸，SKCC-GZB-3 4寸，SKCC-GZB-4 注：其它尺寸可以订制 |
主要特点 | 1、转靶带挡板（可实现每次露出一个工作的靶，避免交叉污染）； 2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均匀分布； 3、转靶转速5~60转/分可调； 4、标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配； 5、安装采用标准真空法兰（CF金属密封或Dg胶圈密封可选）； 6、靶材更换较为简单，无需调整溅射头的高度。 |
配套电源 | 1、直流DC；2、射频RF |
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