光刻晶圆温度测量系统 真空腔体温度监控 返回列表页

光刻晶圆温度测量系统 真空腔体温度监控

光刻是什么？

光刻是一种*的微电子制造工艺，旨在制造微小而复杂的芯片结构，它在现代科技领域中具有重要地位。它通过使用光线将设计好的图案投射到半导体材料表面，从而在微米或甚至纳米尺度上创造出各种电子元件和微结构。

光刻技术是一种将芯片设计通过光刻胶（光刻胶是一种光敏材料）投影到硅片上的制造过程。在光刻过程中，光刻胶的曝光和固化受到温度的影响。

如果晶圆温度不稳定，可能会导致以下问题：

尺寸偏差： 温度变化会影响光刻胶的固化速率，从而导致芯片元件尺寸偏离设计要求。

对准误差： 光刻胶的膨胀和收缩与温度变化有关，不稳定的温度可能会导致不良的芯片对准，影响电路性能。

产量下降： 温度不稳定可能会导致光刻过程的变异，进而影响芯片的良品率和产量。

智测电子TC-WAFER光刻晶圆温度测量系统应用于光刻晶圆，测量精度可达mk级别，可以多区测量晶圆特定位置的温度真实值，也可以精准描绘晶圆整体的温度分布情况，还可以监控半导体设备控温过程中晶圆发生的温度变化，了解升温、降温以及恒温过程中设备的有效性。

智测电子还提供整个实验室过程的有线温度计量，保证温度传感器的长期测量精度。

合肥智测电子致力于高精度温测、温控设备的生产和研发定制，为半导体设备提供可靠的国产解决方案。

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