GMP制药无残留均质机

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制药设备是否符合GMP要求，直接关系到生产企业实施GMP的质量。ikn上海依肯设备在不断的时间创新中逐渐实现在设计、制造、安装及检验等各方面满足医药领域。

高剪切均质机工作机理：

目前国内常用的剪切式均质机线速度多为10～25 m/ s。实践证明其均质效果并不理想。

IKN高剪切均质机指线速度达到40～66 m/ s的剪切式均质机,其主要工作部件为多级相互啮合的定转子,每级定转子又有数层齿圈.

混悬剂药物制备过程为：

药物—粉碎—（分散）分散介质—混悬剂

其操作要点为：

亲水性药物：加液研磨

疏水性药物：先将药物与润湿剂共研，再加液研磨

质重、硬度大的药物：水飞法

制备机械：胶体磨、均质机

均质机和胶体磨相比，细化程度更好，混悬液均化稳定性更高

GMP制药无残留均质机是一款胶体磨和均质机一体化的设备，先研磨均质，先将化工原料混合成流体状浆料的大颗粒和团聚体先打开，然后再进均质。IKN研磨均质机在国nei多家大型药企以及多家医药研究所，医学院都有着突出的应用。
在纳米均质机运作的过程中，转轴以及转轴上各个零部件都是处于高速运转的状态，研磨定转子部分会带动研磨介质与物料产生强烈的碰擦与撞击，以起到磨细物料和分散聚体的作用。同时，物料经过研磨后，通过泵叶的巨大吸力，使其被吸出研磨篮，然后再由分散盘对其进行分散处理，这样就可以在很短的时间内获得理想的研磨效果。

第yi级由具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽，定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离，在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。这样的设计可以保障物料初始颗粒较大时，可以顺畅进入研磨分散机腔体，通过高速旋转的经细度递升磨头，zui终得到微纳米级的物料颗粒。

第2级由转定子组成。均质头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子、转子和批次式机器的工作头设计的不同主要在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗经度、中等经度、细经度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很zhong要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很zhong要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

IKNGMP高速均质机的技术参数：

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。

设备的选型要点：

1、明确使用设备所需达到的效果和目的

2、详细了解并掌握研究物料的性质（包括物理、化学性质）

3、根据物料对设备的搅拌机进行选型

4、再次确定设备的操作参数及结构设计

5、综合考虑设备的成本

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