德国改进型胶体磨研磨分散机

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上海IKN技术，du特创意，融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

ikn循环式作业方式的研磨分散机是一款改进型胶体磨，特别适合新材料的研究制备，目前已成功应用于硅硼浆、石墨烯、石墨烯改性材料、碳纳米管、光伏材料、光催化研究，*研究等多项科研中，同时还广泛应用于医药方面，悬浮液，膏剂，粉剂，针剂等多种均适用。具体详情请接洽上海依肯 林工

IKN研磨分散机采用了二级处理结构，第yi级采用了高剪切研磨分散机的磨头模块，第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块。第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子，定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF，（2P剪切力zui弱，为粗齿，8SF剪切力zui强，为超细齿）且定转子经密度都达到了guo际领xian水平。

三级错齿结构的研磨转子，配合经密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

 适用工艺：实验室在线处理，可对物料进行循环处理，完成在线分散、乳化、均质、混合。详询上海依肯 林万翠  实验室中试型设备，能够准确地完成从小试到工业化的生产模拟，为检验生产工艺，选择大生产设备提供依据，设备设计灵活，仅需更换工作头就可以实现多种工艺要求。

CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%

从设备角度分析，影响研磨效果的因素：

1 磨头的形式（卧式和立式）

2 磨头的剪切速率

3 磨头的齿形结构（见磨头结构）

4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间

5 循环次数

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)  
g 定-转子 间距 (m)

由上可知，研磨速率取决于以下因素：

• 磨头的线速率
• 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

IKN设备的作用力为F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

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