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详细介绍
技术优势
- 超高功率复合
- 与单一光源相比清洗效率更高
- 应用于高反材料能有效清洗
光学技术参数 脉冲激光
- 激光平均功率（W）：300
- 功率调节范围（%）：10-100
- 功率不稳定度（%）：≤5
- 中心波长（nm）：1064±5
- 重复频率（kHz）：20-50
- 单脉冲能量（mJ）：12.5
- 激光接口：QCS
- 工作环境温度：10℃～40℃
- 工作环境湿度：≤80%
光学技术参数 半导体激光
- 激光平均功率（W）：2000
- 功率调节范围（%）：10-100
- 功率不稳定度（%）：≤3
- 中心波长（nm）：915±10
- 工作模式：连续/调制
- 调制频率（Hz）：50-5k
- 占空比调节范围（%）：10-100
- 激光接口：iHQB
- 工作环境温度：10℃～40℃
- 工作环境湿度：≤80%
复合清洗头统参数
- 尺寸（mm）：464x148x239
- 重量（kG）：6（不含跳线、水管等部件）
- 线缆长度（m）：15
- 工作模式：机载
- 焦距（mm）：160
- 扫描宽度（mm）：10-70
- 冷却方式：水冷
- 冷却流量：≥4L/min
- 冷却压力：≥0.6MPa
- 冷却接口：PU管6mm
- 工作环境温度：10℃～40℃
- 工作环境湿度：≤80%
300 W脉冲+2000D 半导体激光清洗
- 脉冲300W 功率：99%
- 频率：20KHz
- 扫描速度：9.6m/s
- 线宽：50mm半导体2000W 功率：90%
- 频率：2000Hz
- 扫描速度：6m/s
- 线宽：50mm
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