详细介绍
80吨/天医院污水处理设备处理量
保护环境,人人有责。城市化水平越来越高,随着而来的环境问题也日渐严重。现在几乎家家都有汽车,每每出行,汽车尾气排放过多,还有为了追求效益,一些工厂肆意排放不经处理的污水,使得水污染越来越严重。
地球是我们赖以生存的家园,不论是空气还是水源对我们都至关重要。水是生命之源,人们可以几天不吃饭,但是不能几天不喝水。水是保证机体正常运行的基本。当然每个人都希望自己能够呼吸新鲜的空气,可是现在的环境却令人失望。
地埋式污水处理设备标准注释点:
1、在安装地埋式污水处理设备之前,所有相关公司将根据设备包装内容和相关协议文件,派专人一一对地埋式污水处理设备安装的集成设备进行清理和检查,并进行记录和检查。但是必须根据质量标准检查和接受重要的零部件。检查后,形成拆箱检验记录,以备记录。
2、数据验收,根据包装内容检查每个包装盒,并完成每个集成设备的相关信息。
3、外观检查,检查到货货物的综合设备是否有明显的损坏,损坏和不合格,并及时相关人员说明情况并开展后续工作。
4、备件这是许多现场人员容易疏忽的情况。大多数备件随附集成设备,但该站点暂时不可用。这要求项目管理人员分别收集和保存,并做好记录。后,当所有工作完成后,它将被移交给相关单位。
5、地埋式污水处理设备负责,在拆开集成设备完成后,设备应立即交给施工单位。
6、现场管理人员应根据设备的到货情况及时确认收货,并保存好文件。
高有机负荷下,反应器内底物充裕,在这种情况中菌胶团比丝状菌具有更强的吸附与存贮营养物质的能力,能够充分利用高浓度的底物迅速增殖,具有较高的比生长速率,抑制了丝状菌的生长。
80吨/天医院污水处理设备处理量
印染废水成分复杂,如选用膜技术处理印染废水,必须选择合适的前处理工艺来阻止废水中的胶体、有机质、悬浮物等对膜造成污染。A. Bes-Piá 等〔20〕 采用O3 与NF 结合的工艺对经生化处理后的印染废水进行处理回用,以O3 来氧化引起膜污染的有机物质,出水的各项指标可以达到回用标准。M. Marcucci 等〔21〕针对生产车间的直排废水进行物化预处理后,利用絮凝沉淀、O3 氧化和UF 进行后续深度处理,整个工艺过程色度去除率为93%,COD 去除率为66%。膜的污染问题限制了膜技术在印染废水处理中的应用,采用O3 氧化等预处理手段来控制膜污染,从而增加膜的使用寿命,降低处理成本,是未来印染废水深度处理的一大趋势。
国外很多研究证明,将不同的膜分离技术结合,构成集成膜工艺,是印染废水深度处理的一个重要方向。M. Marcucci 等〔21〕对经砂滤、UF 处理后的印染废水,再用NF 或RO 进行深度处理。实验证明:NF 或RO 作为深度处理方案是可行的,RO 出水可回用于任何印染工序,NF 在脱盐和去除矿物质方面不如 RO,但运行成本低于RO。
浙江至美环境开发了“臭氧催化氧化+CMF+ RO”深度处理工艺,并建成1 500 m3/d 的印染废水膜法处理回用示范工程。O3 催化氧化系统主要用于去除水中难生化降解有机污染物的COD 和色度,去除率分别可达30%~40%和90%以上。臭氧催化氧化出水进入连续超微滤(CMF)系统,出水水质稳定,COD 稳定在40 mg/L 左右,浊度<0.4 NTU,污染指数(SDI)<3。再经反渗透处理后,出水COD<10 mg/L,电导率<10.5 μS/cm,SS 和色度均为0,满足推荐的高级回用水水质标准。整个工艺通过分质处理、分级分质回用,废水回用率达到总处理水量的75%以上。
这些研究都表明了未来废水深度处理技术的发展方向,即充分利用多种工艺技术集成,提高废水处理程度,达到废水循环回用是终目标。
17. 怎样从水中脱除硅?
水中硅以两种形态存在,活性硅(单体硅)和胶体硅(多元硅):胶体硅没有离子的特征,但尺度相对较大,胶体硅能被精细的物理过滤过程所截留,如反渗透,也可以通过凝聚技术降低水中的含量,如混凝澄清池,但是那些需要依靠离子电荷特征的分离技术,如离子交换树脂和连续电去离子过程(CDI),对脱除胶体硅效果十分有限。
活性硅的尺寸比胶体硅小得多,这样大多数的物理过滤技术如混凝澄清、过滤和气浮等均无法脱除活性硅,能够有效脱除活性硅的过程是反渗透、离子交换和连续电去离子过程。
18. pH对脱除率、产水量和膜寿命有何影响?
反渗透膜产品对应pH范围,一般为2~11,pH对膜性能本身的影响很小,这是与其它膜产品不同的显著特点之一,但是水中许多离子本身的特性受pH的影响巨大,例如当柠檬酸等类的弱酸在低pH条件下,主要呈非离子态,而在高pH值下出现解离而呈离子态。由于同一离子,荷电程度高,膜的脱除率高,荷电程度低或不荷电,则膜的脱除率低,因此pH对某些杂质的脱除率影响十分巨大。
该法是在光作用下进行的化学反应,需要分子吸收特定波长的电磁辐射,受激发产生分子激发态,之后才发生化学变化到另一个稳定的状态,或者变成引发热反应的中间产物。单纯紫外光辐射的分解作用较弱,通过向紫外光氧化法中引入适量的氧化剂(如H2O2、O3等),可以明显优化废水的处理效果和加快降解速率。有机物的光降解有直接光降解和间接光降解两个途径,前者是指有机物分子吸收光能后呈激发态与周围环境中的物质直接进行反应;后者是指有机物环境中存在的某些物质吸收光能呈激发态,再诱导有机物、污染物反应的过程。其中,间接光降解有机物更为重要。
光化学氧化法中可以利用的波长范围是200nm~700nm,即紫外光与可见光范围。光化学氧化在大气污染治理和废水处理方面都有应用,其根据氧化剂种类不同可分为UV/O3、UV/H2O2、UV/Fenton等系统。不管哪个系统,光化学反应一般都是通过产生羟基自由基来对有机物进行降解。
如UV/O3系统,液相臭氧在紫外光辐射下会分解产生羟基自由基,紫外线吸收率在253.7nm处达到大,可将大多数有机物氧化成CO2和水,用于处理工业废水中的铁氰酸盐,有机化合物,氮基酸,醇类,农药,含氮、硫或磷的有机化合物,以及氯代有机物等污染物。
光催化氧化法
该法是光催化剂(也称光触媒)在特定波长光源的照射下产生催化作用,使周围的水分子和氧气激发形成活性的·OH-和·O2自由离子基。光催化氧化技术使用的催化剂有TiO2、ZnO、WO3、CdS、ZnS、SnO2和Fe3O4等。
就我们所知,絮凝过程与絮凝剂分子结构、电荷密度、分子量有关;与悬浮颗粒表面性质、颗粒浓度、比表面积有关;与介质(水)的pH值、电导、水中其他物质的存在、水温、搅动情况等因素有关。因此尽管有理论和经验可循,用实验来选择絮凝剂仍然是*的。
混凝处理中包括凝聚和絮凝两个阶段。在凝聚阶段水中的胶体双电层被压缩失去稳定而形成较小的微粒;在絮凝阶段这些微粒互相聚结(或由于高分子物质的吸附架桥作用相助)形成大颗粒絮体,这些絮体在一定的沉淀条件下可以从水中分离去除。
生物接触氧化法作为一个微生物处理过程, pH 值是其重要的环境因素, 对大多数微生物来说, 适宜的 pH 值在 7 左右, 对 pH 值过高或过低的废水, 应考虑调整 pH 的预处理, 控制生物接触氧化池进水的 pH 值 在6.5~9.5。 Villaverde. S 等研究了不同 pH 值对生物接触氧化中硝化过程的影响, 研究表明, 在 pH 值为5.0~9.0范围内, pH 值每增加一个单位, 硝化效率将增加 13% , 硝化生物膜量在 pH 值为 8.2 时获得大值。 [3]
溶解氧
生物接触氧化池中曝气的作用, 一是供给生物氧化所需的氧, 二是提供反应器内良好的水流紊动程度, 以利于污染物、微生物和氧的充分接触, 保证传质效果, 同时还可通过对水体的扰动达到强制脱膜, 防止填料积泥, 保持生物活性。生物接触氧化池中溶解氧一般应维持在 2.5~ 3.5 mg/L 之 间, 气水比约为(15~ 20):1。溶解氧不足使得生物膜附着力下降而脱落, 导致水黏度增加, 氧转移效率下降, 进而造成缺氧, 形成恶性循环使处理效果恶化; 过高的气水比会造成对生物膜的强烈冲刷, 导致生物膜大量脱落, 影响处理效果。
水质条件
悬浮物是生物接触氧化法处理的重要影响因素。无机悬浮物和泥砂得不到很好的截留和沉淀, 会直接影响充氧和微生物生长。一方面, 悬浮物沉降或粘附于填料生物膜上, 妨碍微生物与水中污染物、溶解氧的传质过程, 降低生物膜的活性; 另一方面, 悬浮物在填料上的积累, 使填料的比表面积减少, 导致生物处理效果下降。通常, 在污水进入接触氧化池之前, 应对污水中无机悬浮物和泥砂进行预处理。
9.污泥回流比R
指从二沉池返回到曝气池的回流污泥QR与污水流量Q之比,用%表示。
10.水力停留时间HRT
污水进入曝气池后,在曝气池中的平均停留时间,也称曝气时间。
11.BOD(Biochemical Oxygen Demand的简写)
生化需氧量或生化耗氧量(一般指五日生化学需氧量),表示水中有机物等需氧污染物质含量的一个综合指示。说明水中有机物由于微生物的生化作用进行氧化分解,使之无机化或气体化时所消耗水中溶解氧的总数量。
通常情况下是指水样充满*密闭的溶解氧瓶中,在20℃的暗处培养5d,分别测定培养前后水样中溶解氧的质量浓度,由培养前后溶解氧的质量浓度之差,计算每升样品消耗的溶解氧量,以BOD5形式表示。其单位ppm或毫克/升表示。其值越高说明水中有机污染物质越多,污染也就越严重。
聚合物在胶粒表面的吸附来源于各种物理化学作用,如范德华引力、静电引力、氢键、配位键等,取决于聚合物同胶粒表面二者化学结构的特点。 这个机理可解释非离子型或带同电号的离子型高分子絮凝剂能得到好的絮凝效果的现象。
三、餐饮污水处理设备优势
1、处理工艺以生物处理工艺为主,结合吸附过滤,消菌等工艺,处理能力高,适用范围广,出水效果好;
2、采用一体化结构,整套设备可埋入地表以下,地表可作绿化或其他用地,不需建房及采暖保温;也可设置在室内;运行噪声低,对周围环境无影响;
3、净化程度高,污泥产生量少;除臭方式采用常规高空排放,另配有土壤脱臭措施,无异味产生;
4、整个设备处理系统配有全自动控制系统和设备故障报警系统,运行安全可靠,操作简便,无需专人职守,只需适时进行设备维护和保养
17、溶解氧量的调整
其主要依据是氧化沟中溶解氧(DO)浓度,主要手段是曝气强度控制;氧化沟中,污水混合液在氧化沟内循环流动,以转刷、转碟或表嗓机推动和充氧,在曝气装置下游溶解氧浓度从高向低变动,由好氧段逐步过渡到缺氧段,好氧段溶解氧浓度DO宜控制在1 mg/L ~3mg/L,缺氧段DO宜控制0.2~0.5mg/L。 转刷(转碟)曝可以调节出水堰的高度,使转刷(转碟)改变淹没浮度而改变曝气量,若没有变频调速装置,则可改变转速调节曝气量,也可增开或减少转刷(转碟)数量来调节曝气量。如果减少曝气量而影响水在池内的流速(应控制在0.25m/s以上),则应增开水下推流器,以保证池内流速,不致淤积。