详细介绍
产品名称:旋转摆动台式精密研磨抛光机
旋转摆动台式精密研磨抛光机
适用范围:金属、晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿物、耐火材料、复合材料、纳米材料等各领域的超平面精密研磨、抛光。
主要特点:
1、研磨盘、抛光盘即主盘可实现由脉宽调制技术制做的恒功率输出电源控制的无级调速旋转;
2、载料块旋转由电机驱动无级调速,并可分别独立调控;
3、载料块支撑架摆动由电机驱动无级调速,并可分别独立调控;
4、LED显示研磨、抛光盘转速;
5、装有可设定、倒计时显示的自动定时器;
6、配有修整块,用来修整研磨盘的平整度;
7、磨抛盘下方水槽底板有一定角度的倾斜至出水口,可使研磨时的沉淀磨料顺利地流向出水口,大大减轻了操作者清除剩余磨料的劳动强度。
技术参数:
1、研磨盘、抛光盘直径:305毫米
2、主盘转速:15~200转/分无级调速
3、zui大磨抛直径:115毫米
4、载料块工作位置:2个
5、定时范围:99小时59分钟
6、1个主电机功率:245瓦
7、4个减速电机功率:100瓦(合计)
8、载料块支撑轮转速:0~300转/分
9、载料块支撑架摆动频率:0~30次/分
10、载料块支撑架摆动角度:8度
11、电源:交流220伏
12、外型尺寸:760×500×350(毫米)
产品附件:
1、铸铁盘一个(直径305毫米,用于研磨)
2、铸铝盘一个(直径305毫米,用于抛光)
3、载料盘二个(直径115毫米)
4、修整环二个(可配合载料盘使用,也可单独使用)
5、白刚玉研磨粉一千克(用于研磨)
6、粘接蜡二块
说明指示
1、研磨盘(抛光盘):由245瓦直流电机驱动的托盘上方可随时更换研磨盘或抛光盘,研磨盘或抛光盘下方的托盘精度可达0.002毫米。盘面直径305毫米。
2、载料块:由不锈钢制成的载料块直径115毫米,可zui大抛光4英寸平面材料。
3、修整环:由不锈钢制成的修整环用于研磨过程中一边研磨材料一边修整盘面,也可将修整环单独使用,以保证研磨盘面的始终平整。
4、载料块主动旋转电机:由10瓦直流电机带1:6减速箱(0.1马力)驱动载料块支撑导轮旋转,以保证载料块无论在任何情况下都可以进行自转(可根据需要开启)。
5、摆动杆:由10瓦直流电机带1:200减速箱(2.7马力)驱动摆动支架摆动,以解决主盘旋转与载料块旋转产生的轴向离心力问题(可根据需要开启)。
6、摆动支架:该装置用锁块锁紧方式夹持到摆动杆上,用于支撑载料块在盘面上运动。
7、载料块支撑导轮:用于支撑载料块在盘面上做主动旋转(可根据需要开启)。
8、摆动支架锁紧块:为防止在研磨或抛光过程中摩擦力大,而产生的摆动支架不稳现象,采用该装置可稳稳固定住摆动支架始终在锁紧位置,以保证研磨抛光过程中不必要的麻烦。
9、电器控制面板:由开机,关机,主盘调速、显示,摆动支架开启、关闭、调速,载料块主动旋转电机开启、关闭、调速,以及整机定时集于一体。操作简单方便。
10、研磨液水管:采用中国台湾蛇形水管,可耐8个压力水压。