昆山国华电子等离子表面处理设备 | |||
国华GH-100D等离子体表面清洗系统标准配置表 | |||
机台名称 | 等离子体表面清洗系统 | ||
机台型号 | GH-100D | ||
机台用途 | 2种气体通入,不同组合用于不同工艺制造,可用于高频板PTFE类、软硬结合板、多层软板等除胶渣等制造工艺,柔性板化金前后清洗、打线邦定前清洗等处理,SMT前清洗等 | ||
技术参数 | 备注 | ||
1 | 机台整机规格 | 960mm(W)× 1030mm(D)× 1720mm(H) |
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2 | 真空室规格 | 435mm(W)× 540mm(H)× 425mm(D) |
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3 | 腔体特点 | 4个区域,弹夹式放置 |
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4 | 真空泵系统 | 韩国优成 |
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5 | PLC自动控制系统硬件 | OMRON/SIEMENS-PLC及扩展模块(D/A转换、A/D转换、温度控制) | 日本欧姆龙/西门子 |
6 | 人机工控系统 | 触摸屏式全中文界面 |
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7 | 温度控制系统 | 日本欧姆龙OMRON温度传感模块,PID闭环控制,温度可控 |
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8 | 真空测定系统 | 皮拉尼电阻式真空计 | 日本爱发科 |
9 | 真空供气系统 | Ф6品牌软管+不锈钢锁套管路 | 进口优质不锈钢 |
10 | 真空排气系统 | 全不锈钢管路+波纹管 | 进口优质不锈钢 |
11 | 破真空系统 | 倒计时自动开合启动 |
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12 | 气体控制系统 | 电磁阀控制 | 日本CKD |
13 | 气体计量系统 | 2路精确质量流量控制计:MFC | SevenStar |
14 | 等离子发生器 | 额定功率:0-500W,13.56MHZ全自动匹配(国华自主研发) |
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15 | 其他组件 | 国内外元器件 |
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16 | 机台总重 | 约500kg |
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17 | 额定功率 | 额定功率 4KW |
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18 | 机台供电 | AC-380V-50Hz,三相五线 |
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19 | 单次处理时间 | 10-60分钟不等(根据产品特征,时间设定不同) |
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20 | 工作真空度 | 0.15~0.3Torr (可根据要求设定,可恒定真空度) |
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21 | 真空泵极限压力 | 5pa以下 |
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22 | 抽真空时间 | 抽到工作真空≤180秒 |
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23 | 破真空时间 | ≤60秒 |
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24 | 供气方式 | 电磁阀式 |
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25 | 流量计调节范围 | 2路独立MFC 0-300sccm(毫升/分钟), |
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26 | 操作方式 | 人工取放工件,一键启动自动控制 |
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昆山国华电子等离子表面处理设备,国华电子等离子体清洗机等离子体和固体、液体或气体一样,是物质的一种状态,也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的"活性"组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面.以达到清洗目的
国华电子等离子体清洗机的结构主要分为三个大的部分组成,分别是控制单元、真空腔体以及真空泵。就以下三个部分做一个陈述:
一、控制单元:
目前国内使用的等离子清洗机,包括国外进口的,控制单元主要分为半自动控制、全自动控制、PC电脑控制、液晶触摸屏控制四种方式。
而控制单元又分为两个大的部分:1)电源部分:主要电源频率有三种,分别是40KHz、13.56MHz、2.45GHz,其中13.56MHz是需要电源匹配器的,而2.45GHz又称为微波等离子,主要的功能作用,前面已经提到了,这里就不一一介绍了。2)系统控制单元:分三种,按钮控制(半自动、全自动)、电脑控制、PLC控制(液晶触摸屏控制)。
二、真空腔体:
真空腔体主要是分为两种材质的:1)不锈钢真空腔体,2)石英腔体。
三、真空泵:
真空泵分为两种:1)干泵、2)油泵
一、清洗对象经等离子清洗之后是干燥的,不需要再经干燥处理即可送往下一道工序。可以提高整个工艺流水线的处理效率;
二、等离子清洗使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害,同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题; 三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶剂,这样清洗后不会产生有害污染物,因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法。这在高度关注环保的情况下越发显出它的重要性;
四、采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同。等离子体的方向性不强,这使得它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务,因此不需要过多考虑被清洗物体的形状。而且对这些难清洗部位的清洗效果与氟利昂清洗的效果相似甚至更好;
五、使用等离子清洗,可以使得清洗效率获得*的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成,因此具有产率高的特点;
六、等离子清洗需要控制的真空度约为100Pa,这种清洗条件很容易达到。因此这种装置的设备成本不高,加上清洗过程不需要使用价格较为昂贵的有机溶剂,这使得整体成本要低于传统的湿法清洗工艺;
七、使用等离子清洗,避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施,所以生产场地很容易保持清洁卫生;
八、等离子体清洗可以不分处理对象,它可以处理各种各样的材质,无论是金属、半导体、氧化物,还是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物)都可以使用等离子体来处理。因此特别适合于不耐热以及不耐溶剂的材质。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗;
九、在完成清洗去污的同时,还可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的润湿性能、改善膜的黏着力等,这在许多应用中都是非常重要的。